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Abstract
A scanning white-light interferometer is built for precisely measuring phase properties of dispersive multilayer thin film structure with the aid of the commercial spectrometer. Combining seeking optimal function for interferogram maximas with wavelet denoising algorithm, a novel time-domain algorithm is presented which enables the direct extraction of group delay and thus obtains a remarkable decrease of noise level in group delay and group delay dispersion. The apparatus shows reasonable potential for multilayer measurement, material characterization, displacement measurement as well as profilometry.
310.6845 Thin film devices and applications 310.6188 Spectral properties 320.7090 Ultrafast lasers 300.6300 Spectroscopy, Fourier transforms 
Chinese Optics Letters
2013, 11(s1): S10302
作者单位
摘要
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室, 浙江 杭州 310027
为精确测量超快激光色散补偿薄膜的群延迟色散,提出了一种基于窗口傅里叶变换和样条插值去噪算法的新型白光干涉测量方案。计算机模拟表明此方法测试精度可达0.58 fs2。分析了高斯噪声和光强平均效应对测试精度的影响,并使用此方法对实验制备的Gires-Tournois干涉反射镜和啁啾镜进行了测试,在宽光谱范围内测试误差小于10 fs2。该方法相比其他算法可以更快速、更精确地实现薄膜相位信息的提取,具有更高的测试精度和实用性。
薄膜 群延迟色散 白光干涉 窗口傅里叶变换 
光学学报
2012, 32(10): 1031003
作者单位
摘要
1 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室, 浙江 杭州 310027
2 芬兰倍耐克有限公司, 芬兰 赫尔辛基 FIN-01510
以乙醇钽[Ta(OC2H5)5]和水蒸气为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法分别在基板温度为250 ℃和300 ℃的K9和石英衬底上制备了Ta2O5光学薄膜。采用分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)等手段对薄膜的光学特性、微结构和表面形貌进行了研究。结果表明,用ALD方法制备的Ta2O5薄膜在刚沉积和350 ℃退火后均为无定形结构,而250 ℃温度下沉积的薄膜其表面粗糙度低,聚集密度很高,光学均匀性优,在中紫外到近红外均表现出很好的光学特性,可以作为高折射率材料很好地应用于光学薄膜中。
薄膜 原子层沉积 Ta2O5薄膜 光学特性 
光学学报
2011, 31(10): 1031001

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